삼성전자, 1나노부터 고개구율 EUV 기술 적용

💻 삼성전자, 1나노부터 고개구율 EUV 기술 적용 http://zdnet.co.kr/view/?no=20260811134353 📌 1나노 공정부터 노광 기술 전환 삼성전자는 High-NA EUV를 1나노급부터 본격 적용할 계획 현재 2나노까지 상용화, 2029년 1.4나노 양산 목표 2030년 1나노 공정 진입과 함께 차세대 노광 적용 예상 📌 High-NA로 싱글 패터닝 확대 렌즈 개구수는 기존 0.33에서 0.55로 향상 기존 EUV 멀티 패터닝 공정을 싱글 패터닝으로 단순화 가능 공정 수 감소로 비용 절감과 생산성 개선 기대 📌 2·1.4나노는 기존 EUV 중심 삼성은 2나노·1.4나노까지 0.33 NA EUV를 주력 사용 High-NA는 아직 마스크·펠리클 등 기술 보완 필요 단기적으로 기존 EUV와 High-NA 혼용 가능성 📌 ASML High-NA 생태계 수요 확대 1나노 이하 공정부터 High-NA 적용 필요성이 본격화 노광 장비뿐 아니라 마스크·펠리클 소재 고도화도 필수 2030년 전후 첨단 파운드리 투자 사이클의 핵심 장비로 부각 💻반도체 소부장💻[그로쓰리서치] https://telegram.me/growth_semi