[단독] 삼성전자, 4나노 파운드리에 국산 EUV 마스크 첫 테스트

💻 [단독] 삼성전자, 4나노 파운드리에 국산 EUV 마스크 첫 테스트 https://www.thelec.kr/news/articleView.html?idxno=55205 📍 핵심 삼성, 국산 EUV 블랭크 4나노 첫 테스트 에스앤에스텍, 양산 검증용 샘플 공급 연구소 단계를 넘어 양산 라인 첫 투입 📍 의미 호야 의존 축소 위한 국산화 시도 공급망 안정과 가격 협상력 확보 기대 4나노 주력 노드 적용은 의미 큼 📍 공정 포인트 4나노는 삼성 파운드리 핵심 공정 포토마스크 65~70장 필요 이 중 EUV용은 16~17장 수준 📍 기술 포인트 블랭크마스크는 포토마스크 원판 EUV는 DUV와 달리 반사형 구조 미세 결함에도 수율 영향 큰 소재 📍 에스앤에스텍 준비 삼성과 품질 개선 작업 진행 중 파티클 검사장비에 400억 이상 투자 용인 신공장 중심 대응 체계 구축 📍 기대 효과 국산화 시 비용 절감 기대 리드타임 단축 가능성 양산 발주까진 6개월~1년 전망 💻반도체 소부장💻[그로쓰리서치] https://t.me/growth_semi