[DNP NIL 업데이트] “죽은 기술”인 줄 알았던 NIL, 다시 살아나는 분위기

✅ [DNP NIL 업데이트] “죽은 기술”인 줄 알았던 NIL, 다시 살아나는 분위기 📌 NIL이란 반도체 회로를 빛으로 그리는 대신, 틀로 찍어내는 방식 기존 첨단 공정(EUV/노광)은 빛을 이용해서 웨이퍼 위에 회로를 그리는 방식이라는 점에서 차이 📌 이번에 나온 내용 DNP는 4월 8~10일 열린 Photomask Japan 2026에서, 10nm급 회로선을 만들 수 있는 NIL 템플릿 제작에 성공했다고 밝힘 쉽게 말하면, 아주 미세한 반도체 회로를 찍어낼 수 있는 틀을 만드는 데 진전이 있었다는 뜻 📌 회사가 말한 사업 계획 DNP는 2028년 3월까지 끝나는 회계연도에, NIL 사업 양산을 시작하겠다고 설명 또 2031년 3월까지 끝나는 회계연도에는, NIL 사업 매출 40억엔을 목표로 제시 📌 중요한 점 그동안 NIL은 '기술은 가능해 보여도, 실제 공장에서 대량생산하긴 어렵다'는 평가 그런데 이제는 DNP가 언제 양산할지, 매출 목표가 얼마인지까지 말하고 있음 즉, 진짜 사업으로 키우려는 움직임이 보인다는 점이 중요 📌 해석 포인트 NIL이 EUV 같은 최첨단 공정을 전부 대신할 가능성은 아직 낮아 보임 하지만 특정 공정이나 특정 제품에서는 실제로 쓰일 가능성이 커지는 흐름 그래서 NIL은 일부 분야부터 상용화가 시작될 수 있는 기술 📌 앞으로 봐야 할 것 실제로 어떤 고객사가 채택하는지 불량률, 수율, 템플릿 내구성 문제가 해결되는지 2028년 양산 계획이 실제 매출로 이어지는지 ✅독립리서치 그로쓰리서치 https://t.me/growthresearch