ASML·TSMC, High NA EUV 대형 광마스크 전환을 주도하는 산업 협력 이니셔티브 발표

>>ASML·TSMC, High NA EUV 대형 광마스크 전환을 주도하는 산업 협력 이니셔티브 발표 •ASML과 TSMC는 High NA EUV 노광 기술의 가치를 극대화하기 위해 12인치 광마스크로의 전환을 추진하는 산업 협력 이니셔티브를 공동으로 출범 •2031년까지 12인치 광마스크 시험 생산라인을 구축하고, 2033년까지 첨단 공정 노드 생산을 위한 완전한 노광 시스템 준비를 갖추는 것이 목표 •이번 이니셔티브는 업계의 폭넓은 지지를 받고 있으며, 여러 High NA EUV 도입 업체와 주요 공급업체들도 참여 의사를 밝힌 것으로 알려졌음 (블룸버그) >ASML与台积电共同发起一项产业合作倡议,旨在推动向12英寸光掩模的转型,以最大化High NA EUV光刻技术的价值。该倡议目标于2031年前建立一条12英寸光掩模试产线,并于2033年前为先进制程节点生产做好完整光刻系统准备。值得强调的是,该倡议获得产业界的广泛支持,多家High NA EUV采用者及其他主要供应商已表达加入意向。(彭博)