ASML, EUV 광원 출력 혁신 공개...2030년까지 칩 생산량 최대 50% 확대 기대 (로이터)

>>ASML, EUV 광원 출력 혁신 공개...2030년까지 칩 생산량 최대 50% 확대 기대 (로이터) •ASML 연구진은 핵심 반도체 제조 장비의 광원 출력을 대폭 끌어올릴 수 있는 새로운 방식을 찾아냈다고 밝혔음. 이를 통해 2030년까지 반도체 생산량을 최대 50%까지 늘릴 수 있을 것으로 기대된다고 설명했음 •ASML의 EUV 광원 최고기술책임자인 Michael Purvis는 “이는 단순한 과장이나, 짧은 시간만 유지되는 시연용 기술이 아니다”라고 강조했음. 그는 미국 캘리포니아주 샌디에이고 인근 회사 시설에서 “고객의 실제 요구를 충족하면서 1,000와트 출력을 안정적으로 구현할 수 있는 시스템”이라고 설명 >阿斯麦的研究人员表示,他们已找到一种方法,可以大幅提升关键芯片制造机器的光源功率,从而在2030年前将芯片产量提高多达50%。“这并非噱头,也不是那种只能维持极短时间演示的把戏,”ASML的极紫外(EUV)光源首席技术官迈克尔·珀维斯(Michael Purvis)表示。“这是一个能在满足客户所有实际需求的情况下,稳定产生1,000瓦功率的系统,”他在公司位于加州圣迭戈附近的设施中补充道。(路透)