중국, 포토레지스트(감광액) 분야서 신규 돌파...북경대팀, 나노급 3D 구조 실시간 관찰 성공

>중국, 포토레지스트(감광액) 분야서 신규 돌파...북경대팀, 나노급 3D 구조 실시간 관찰 성공 •과기일보에 따르면, 포토리소그래피(광식각) 기술은 IC 미세공정 발전을 견인하는 핵심 동력임. 최근 베이징대 화학·분자공학대학 연구팀이 협력 연구를 통해 냉동 전자 단층촬영(Cryo-ET) 기술을 이용, 액상 환경에서 포토레지스트 분자의 미세한 3차원 구조와 계면 분포, 얽힘 거동을 최초로 원위치(in-situ) 상태에서 규명했음. 이 연구 결과는 포토레지스트 결함을 현저히 줄일 수 있는 산업화 솔루션 개발로 이어졌으며, 관련 논문은 최근 《Nature Communications》에 게재되었음. 연구진은 냉동 전자 단층촬영 기술을 반도체 분야에 처음으로 적용, 5nm 이하 분해능의 3D 전자 구조 ‘파노라마 이미지’를 합성, 기존 기술의 한계였던 비원위치 관찰·3차원 해상도 한계·저분해능 문제를 동시에 극복했음.